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芯片的“隐形血液”:电子特气从入门到精通

许凌
2025-07-25
事实新闻
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如果你把一块12英寸晶圆放大到足球场大小,那么任何一粒尘埃都变成巨石;任何0.0001%的杂质,都可能让价值数千万的芯片报废。

 

电子特气,就是在这块“足球场”里反复吹过的“无菌氧”。

  1. 电子特气是什么?
    定义:在集成电路、显示面板、LED、光伏等高端制造中,参与物理或化学反应的高纯(≥99.999%)或超高纯(≥99.9999%)特种气体。

 

分类速记:
• 刻蚀气:CF₄、SF₆、Cl₂、HBr——“雕刻师”
• 沉积气:SiH₄、WF₆、TEOS、NH₃——“砖瓦匠”
• 光刻气:Ar/Ne/F₂/Kr混合气——“摄影师”
• 掺杂气:PH₃、AsH₃、B₂H₆——“调味剂”
• 环境气:N₂、Ar、He——“保护罩”

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2. 为什么它被称为“芯片血液”?

工艺环节

气体角色

纯度红线

失效后果

离子注入

AsH₃

99.9999%

阈值电压漂移 → 芯片报废

CVD沉积

WF₆

99.9999%

薄膜电阻异常 → 性能阉割

干法刻蚀

CF₄/O₂

99.9995%

关键尺寸偏差 → 良率腰斩

光刻

Ar/F/Ne

比例±0.1%

波长漂移 → 图案错位

 

 

一句话:芯片越小,气体越纯;工艺越先进,品种越多。
目前7 nm产线需110余种特气,3 nm产线预计增至130种以上。

                                                                        离子注入工艺流程

 

                                                     化学气相沉积工艺中电子气体的使用流程

 

                                                      刻蚀工艺中电子气体的使用流程

 

                                                            光刻工艺中电子气体的使用流程

 

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3. 制造流程:空气→9N纯度如何炼成?
Step1 原料:空气、工业尾气、卤素盐、硅烷矿
Step2 空分:-196 ℃低温精馏,先拿N₂、O₂、Ar
Step3 合成:电解、催化、裂解,生成SiH₄、NF₃、WF₆
Step4 纯化:
• 化学吸附:除去H₂O、O₂、CO₂
• 低温精馏:同位素/轻杂质分离
• 钯膜过滤:H₂透过,其他拦截
→ 纯度由5N(99.999%)→7N(99.99999%)
Step5 混配:ppm级比例误差<±1%
Step6 检测:ppb级金属离子、颗粒计数
Step7 包装:电解抛光EP级钢瓶+负压置换,防止二次污染

                                                           气体合成及空气分离工艺流程图

                                                               气体纯化工艺流程图

                                                           气体检验及气瓶处理工艺流程图

                                                           气体充装及气体混配工艺流程图

 

 

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4. “四大门派”如何垄断全球90%市场?

门派

2020收入

核心秘籍

中国布局

美国空气化工AP

88亿美元

现场制气+TGCM一站式

上海、天津、西安

德国林德Linde

272亿美元

并购狂魔,1000+工艺专利

大连、宁波、厦门

法国液空AL

240亿欧元

氢气+电子气双轮驱动

上海、合肥、成都

日本酸素TNSC

6200亿日元

MOCVD设备+气体闭环

无锡、大连、成都

 

 

 

打法拆解:
① 全球化:气体运输半径≤200 km,并购/合资快速占位;
② 一体化:空分设备+气体+运维,绑定客户10~20年长单;
③ 多元化:大宗+特气+氢能,平滑周期波动。

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5. 中国突围:八大金刚与五大短板
5.1 国产八大金刚

公司

拳头产品

纯度/认证

下游客户

2025扩产计划

华特气体

光刻混合气

ASML认证

中芯、Intel、台积电

佛山二期7 t/年

金宏气体

超纯NH₃

7N

SK海力士、中芯

苏州+重庆共6000 t

雅克科技

SF₆、CF₄

6N

三星、长江存储

成都技改12000 t SF₆

南大光电

PH₃、AsH₃

6N5

三安、京东方

宁波350 t PH₃

昊华科技

NF₃、WF₆

5N5

长鑫、华虹

洛阳4600 t NF₃+WF₆

派瑞特气

NF₃、WF₆

6N

台积电、三星

肥乡5400 t NF₃

杭氧股份

电子级N₂/O₂

6N

晶合、粤芯

现场制气20万Nm³/h

凯美特气

稀有气体Ne/Kr/Xe

6N

华星、天马

岳阳1000 t/年

 

5.2 五大短板
① 纯度天花板:国产7N已量产,8N+仍空白;
② 品种缺口:IC用110种,只能做30种;
③ 设备受制:高纯泵阀、分析仪器90%进口;
④ 认证周期长:IC级2~3年,面板级1~2年;
⑤ 运输安全:剧毒品/易燃品法规+物流成本双高。

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6. 未来战场:3 nm之后,气体还能怎么卷?
技术极限:
• 纯度:8N→9N(10 ppt杂质)
• 混合精度:±0.05 % → ±0.01 %
• 新分子:锗烷GeH₄、乙硅烷Si₂H₆、新型高-k金属前驱体
商业模式:


• 现场小型化:橇装NF₃、WF₆发生器,减少运输风险;
• TGCM 2.0:AI预测用量+远程钢瓶RFID,库存下降30%;
• 循环经济:晶圆厂尾气回收→现场再提纯,闭环利用率>80%。

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7. 一张图读懂产业链&国产机会

上游:空气/化工尾气 → 空分设备(杭氧、盈德)

中游:气体合成+纯化+混配(华特、金宏、南大、派瑞)

下游:晶圆厂/面板厂 TGCM服务(正帆、和远)

机会清单(收藏级)
• 设备:超高纯阀门、质量流量计、在线FTIR分析仪
• 材料:9N级吸附剂、EP级钢瓶、氟树脂密封圈
• 服务:第三方TGCM、危废尾气处理、氢气回收

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结语
当芯片制程逼近1 nm,电子特气不再只是“耗材”,而是决定摩尔定律能否继续的“氧气瓶”。国产化不是选择题,而是生死题。
下一轮半导体周期,谁能在纯度、品类、服务、安全四大维度全部通关,谁就能成为中国的“第五大门派”。